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在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜功用的一个重要因素。因此，当点评某薄膜样品的功用时，需求检测该薄膜样品不同厚度下的功用。对于真空镀膜的情形，这往往需求进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题：，不同次生长的样品，仪器的状况不同，以至于影响薄膜样品功用的因素可能不仅仅是厚度;其次，真空镀膜试验装取样品需求重新进行真空的获得，十分耗时。增加了出产和检测的本钱。
多功用磁控溅射镀膜系统，由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸腾镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜生长和器材制备过程高度集成在一个完整的可控环境气氛的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高功用、大面积有机光电器材和电路的制备。
真空镀膜机的污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”。多弧离子镀膜机根据污染物的物理状态可分为固态、气态和液态，污染物以薄膜或颗粒的形式存在。就其化学特性而言，它可以是离子态或共价态，无机态或有机态。
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