北京电子元器件网北京电子产品制造设备北京电镀设备黑龙江铜电化学沉积的动态硅通孔.. 免费发布电镀设备信息

黑龙江铜电化学沉积的动态硅通孔填充⼯艺半导体

更新时间:2025-01-20 07:15:41 编号:d321284kd0f54a
分享
管理
举报
  • 面议

  • 硅通孔填充⼯艺,铜电化学沉积,动态硅通孔填充⼯艺,TSV电镀

  • 8年

徐发杰

18515625676

微信在线

产品详情

黑龙江铜电化学沉积的动态硅通孔填充⼯艺半导体

关键词
硅通孔填充⼯艺半导体,黑龙江硅通孔填充⼯艺,硅通孔填充⼯艺晶圆,光耦胶
面向地区

小型喷镀机台
配备有Stir Cup适用于研发以及小批量生产。
特别适合于镀孔,Sn/Ag电镀,Cu pillar等电镀制程。
体积小,可对应2寸到8寸晶圆电镀。
只需使用10L或更少的镀液。
配备循环过滤器
配备供排液泵。
Stir Cup

VALTRON®UltraLux™ 是一种临时粘结蜡,主要用于半导体行业的抛光和研磨。该类特的粘合剂产品有固体和液体两种形式,提供低黏性和高粘合强度。蜡的物理性质使高速下控制加工速率成为可能。该新型水溶性液体蜡设计用于方便有水拆卸精密、超薄的半导体晶片。使用VALTRON®水基清洗剂去除蜡。

• 半导体晶圆蜡粘合剂 高粘结强度
• H高加工速度
• 高软化点
• 高熔化温度
• 低黏性
• 流动性
• 超紧密总厚度变化

留言板

  • 硅通孔填充⼯艺铜电化学沉积动态硅通孔填充⼯艺TSV电镀硅通孔填充⼯艺半导体黑龙江硅通孔填充⼯艺硅通孔填充⼯艺晶圆光耦胶
  • 价格商品详情商品参数其它
  • 提交留言即代表同意更多商家联系我

公司资料

北京汐源科技有限公司
  • 毛杨杨
  • 北京 朝阳
  • 有限责任公司(自然人投资或控股)
  • 2016-02-02
  • 人民币2000000万
  • 小于50
  • 灌封胶水
  • 灌封胶,三防漆,导电胶,导热垫片
小提示:黑龙江铜电化学沉积的动态硅通孔填充⼯艺半导体描述文字和图片由用户自行上传发布,其真实性、合法性由发布人负责。
徐发杰: 18515625676 让卖家联系我