中国晶圆加工设备行业发展规模及前景规划建议报告

中国晶圆加工设备行业发展规模及前景规划建议报告2023 VS 2029年

★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★
【报告编号】: 437067

【出版时间】: 2023年4月

【出版机构】: 华研中商研究院

【交付方式】: EMIL电子版或特快专递

【报告价格】:【纸质版】: 6500元 【电子版】: 6800元 【纸质+电子】: 7000元


【联-系-人】: 成莉莉--客服专员


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【报告目录】


章 晶圆加工设备概述
1.1 晶圆加工设备基本介绍
1.1.1 晶圆加工设备价值
1.1.2 晶圆加工设备分类
1.1.3 晶圆加工设备特点
1.1.4 行业的上下游情况
1.2 晶圆加工相关工艺
1.2.1 晶圆加工流程
1.2.2 热处理工艺
1.2.3 光刻工艺
1.2.4 刻蚀工艺
1.2.5 薄膜沉积工艺
1.2.6 化学机械研磨工艺
1.2.7 清洗工艺
二章 2020年到2023年中国晶圆加工设备行业发展综述
2.1 中国晶圆加工设备行业政策环境
2.1.1 行业政策概览
2.1.2 行业规划政策
2.1.3 行业税收政策
2.2 中国晶圆加工设备行业发展环境
2.2.1 半导体设备行业基本情况
2.2.2 半导体设备行业发展情况
2.2.3 半导体设备行业竞争格局
2.2.4 国内半导体设备行业政策分析
2.2.5 中国半导体设备行业发展情况
2.2.6 国内半导体设备行业发展需求
2.3 晶圆加工设备行业发展情况
2.3.1 晶圆加工设备市场规模
2.3.2 晶圆加工设备细分市场
2.3.3 中国晶圆加工设备市场规模
2.3.4 中国集成电路制造设备国产化潜力
2.4 中国晶圆加工设备行业投招标情况
2.4.1 半导体设备行业招投标情况
2.4.2 晶圆加工设备厂商中标现状
2.4.3 晶圆加工设备厂商中标动态
2.4.4 晶圆加工设备行业投资风险
2.5 晶圆加工设备行业发展挑战及建议
2.5.1 晶圆加工设备行业发展挑战
2.5.2 晶圆加工设备行业发展建议
三章 2020年到2023年中国光刻设备行业发展综述
3.1 光刻设备概述
3.1.1 光刻机基本介绍
3.1.2 光刻设备技术介绍
3.1.3 EUV光刻机制造工艺
3.1.4 主流光刻机产品对比
3.2 光刻设备行业发展情况分析
3.2.1 光刻机行业发展历程
3.2.2 光刻机行业上下游布局
3.2.3 光刻机行业销量规模
3.2.4 光刻机行业市场规模
3.2.5 光刻机产品结构分析
3.2.6 光刻机行业竞争格局
3.3 中国光刻设备行业发展情况分析
3.3.1 国内光刻机产业政策
3.3.2 国内光刻机产业链布局
3.3.3 国内光刻机研发动态
3.3.4 光刻机行业面临问题
3.3.5 国产光刻机发展建议
3.3.6 国产光刻机破局之路
3.4 2020年到2023年中国光刻机进出口数据分析
3.4.1 进出口总量数据分析
3.4.2 主要贸易国进出口情况分析
3.4.3 主要省市进出口情况分析
四章 2020年到2023年中国薄膜沉积设备行业发展综述
4.1 薄膜沉积设备概述
4.1.1 薄膜沉积设备定义
4.1.2 薄膜沉积设备分类
4.2 薄膜沉积设备市场发展情况
4.2.1 薄膜沉积设备市场规模
4.2.2 薄膜沉积设备竞争态势
4.2.3 国内薄膜沉积设备招标情况
4.2.4 国内薄膜沉积设备竞争态势
4.2.5 薄膜沉积设备行业面临挑战
4.3 化学气相沉积（CVD）设备行业发展情况
4.3.1 CVD技术概述
4.3.2 CVD设备产业链全景
4.3.3 CVD设备行业发展现状
4.3.4 CVD设备行业竞争格局
4.4 薄膜沉积设备行业发展前景
4.4.1 薄膜沉积设备行业面临机遇
4.4.2 薄膜沉积设备行业风险分析
4.4.3 薄膜沉积设备行业发展趋势
五章 2020年到2023年中国刻蚀设备行业发展综述
5.1 刻蚀设备概述
5.1.1 半导体刻蚀技术
5.1.2 刻蚀工艺分类
5.1.3 刻蚀工艺
5.1.4 刻蚀设备原理
5.1.5 刻蚀设备分类
5.1.6 刻蚀设备产业链
5.2 刻蚀设备行业发展情况
5.2.1 刻蚀设备市场规模
5.2.2 刻蚀设备市场结构
5.2.3 刻蚀设备竞争格局
5.3 中国刻蚀设备行业发展情况
5.3.1 刻蚀行业驱动因素
5.3.2 刻蚀设备国产化情况
5.3.3 刻蚀技术水平发展状况
5.3.4 刻蚀域技术水平差距
5.3.5 刻蚀设备国产替代机遇
六章 2020年到2023年中国化学机械抛光设备行业发展状况
6.1 CMP设备概述
1.1.1 CMP技术概念
6.1.1 CMP设备应用场景
1.1.2 CMP设备基本类型
6.2 CMP设备行业发展情况
6.2.1 CMP设备市场分布
6.2.2 CMP设备竞争格局
6.2.3 CMP设备市场规模
6.3 中国CMP设备行业发展情况
6.3.1 CMP设备市场规模
6.3.2 CMP设备市场分布
6.3.3 CMP设备市场集中度
6.3.4 CMP设备行业面临挑战
6.4 CMP设备行业投资风险
6.4.1 市场竞争风险
6.4.2 技术创新风险
6.4.3 技术迭代风险
6.4.4 客户集中风险
6.4.5 政策变动风险
6.5 CMP设备技术发展趋势
6.5.1 设备抛光头分区精细化
6.5.2 清洗单元多能量组合化
6.5.3 设备工艺控制智能化
6.5.4 预防性维护精益化
七章 2020年到2023年中国清洗设备行业发展综述
7.1 清洗设备行业概述
7.1.1 半导体清洗介绍
7.1.2 半导体清洗工艺
7.1.3 清洗设备的主要类型
7.1.4 清洗设备的清洗原理
7.2 清洗设备行业发展情况
7.2.1 清洗设备行业市场规模
7.2.2 清洗设备行业竞争格局
7.2.3 清洗设备公司技术布局
7.2.4 清洗设备市场结构分布
7.3 中国清洗设备行业发展情况
7.3.1 国内清洗设备企业发展情况
7.3.2 国内清洗设备行业技术发展